Ausstattung

Das IAM-AWP verfügt über eine umfangreiche Ausstattung modernster Laserstrahlquellen für verschiedenste Bearbeitungszwecke. Zum Einsatz kommen UV-Excimerlaserstrahlquellen, Faserlaser, Festkörperlaser (Nd:YAG), CO₂–Laser, Diodenlaser sowie Ultrakurzpulslaser. Zur Analyse von Bearbeitungsergebnissen kommen diverse Charakterisierungsmethoden zum Einsatz, wie z.B. Standardmethoden der Metallographie und Werkstoffprüfung, Rasterelektronenmikroskopie, Profilometrie, Raman, Röntgenbeugung, elektrochemische Analysen oder Benetzungsuntersuchungen.

Laserstrahlanlagen

3x Ultrakurzpulslaser (UV, grün, NIR, 280fs-10ps, 20 W, 300 W) mit Rolle-zu-Rolle Bearbeitung
UV-FK-Laser zum Laserdrucken (LIFT, Laser-induced Forward Transfer)
4x Excimer-Laser (193 nm, 248nm, 10-20 W)
Yb:YAG Faserlaser (NIR, 5ns-200 ns, 20 W)
2x Hochleistungsdiodenlaser (940 nm, 50 W; 808 nm, 100W)
CO₂ Laserstrahlquelle (40W)

_{Ausgewählte Laserstrahlanstrahlagen}

Analysemethoden

Oberflächenprofilometrie und Rauheitsprüfer
Hochauflösende Rasterelektronenmikroskopie und EDX (Philips XL30S, Phenom XL)
Materialographie und Probenpräparation (z.b. Glovebox MBraun Labmaster dp)
Elektrochemische Charakterisierung (3x Batterietester Arbin BT 2000)
Dynamische und statische Kontaktwinkelmessung (Dataphysics OCA 20)
Laser induced breakdown spectrocopy zur ortsaufgelösten qualitativen und quantitatvien Elementanalyse (LIBS, Secopta GmbH)
Nanoindenter (0,1-500mN, TTX-NHT3, Anton Paar GmbH)

_{Oberflächenanalyse mit Weißlichtprofilometer} _{Kontaktwinkelmessung an laserstrukturierten Oberflächen}

Haar

_{Laserstrukturiertes Haar}_{Spezifische Entladekapazität als Funktion der Zyklenanzahl für laserstrukturierte und}

_{unstrukturierte}_{LiCoO2 Dünnschichten}