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Ausstattung

Das IAM-AWP verfügt über eine umfangreiche Ausstattung modernster Laserstrahlquellen für verschiedenste Bearbeitungszwecke. Zum Einsatz kommen UV-Excimerlaserstrahlquellen, Faserlaser, Festkörperlaser (Nd:YAG), CO2–Laser, Diodenlaser sowie Ultrakurzpulslaser. Zur Analyse von Bearbeitungsergebnissen kommen diverse Charakterisierungsmethoden zum Einsatz, wie z.B. Standardmethoden der Metallographie und Werkstoffprüfung, Rasterelektronenmikroskopie, Profilometrie, Raman, Röntgenbeugung, elektrochemische Analysen oder Benetzungs­untersuchungen.

 

Laserstrahlanlagen

  • 3x Ultrakurzpulslaser (UV, grün, NIR, 280fs-10ps, 20 W, 300 W) mit Rolle-zu-Rolle Bearbeitung
  • UV-FK-Laser zum Laserdrucken (LIFT, Laser-induced Forward Transfer)
  • 4x Excimer-Laser (193 nm, 248nm, 10-20 W)
  • Yb:YAG Faserlaser (NIR, 5ns-200 ns, 20 W)
  • 2x Hochleistungsdiodenlaser (940 nm, 50 W; 808 nm, 100W)
  • CO2 Laserstrahlquelle (40W)

 

Ausgewählte Laserstrahlanstrahlagen

Analysemethoden

  • Oberflächenprofilometrie und Rauheitsprüfer
  • Hochauflösende Rasterelektronenmikroskopie und EDX (Philips XL30S, Phenom XL)
  • Materialographie und Probenpräparation (z.b. Glovebox MBraun Labmaster dp)
  • Elektrochemische Charakterisierung (3x Batterietester Arbin BT 2000)
  • Dynamische und statische Kontaktwinkelmessung (Dataphysics OCA 20)
  • Laser induced breakdown spectrocopy zur ortsaufgelösten qualitativen und quantitatvien Elementanalyse (LIBS, Secopta GmbH)
  • Nanoindenter (0,1-500mN, TTX-NHT3, Anton Paar GmbH)

 

 

Oberflächenanalyse mit Weißlichtprofilometer

 

Kontaktwinkelmessung an laserstrukturierten Oberflächen

 

Laserstrukturiertes Haar

Spezifische Entladekapazität als Funktion der Zyklenanzahl für laserstrukturierte und unstrukturierte LiCoO2 Dünnschichten