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Ausstattung

Die Abteilung Stoffverbunde und Dünnschichten setzt unterschiedliche PVD-Beschichtungsanlagen zur Schichtentwicklung ein. Vorzugsweise werden Magnetronsputtern, Arc-Ionenplattieren und Hybridprozesse verwendet. Die Schichtcharakterisierung erfolgt hinsichtlich des Aufbaus, der Eigenschaften und des Verhaltens. Darüber hinaus werden Lithographieprozesse zur Mikrostrukturierung von Schichten eingesetzt.

Beschichtungsanlagen:

  • Leybold Z550
  • Hauzer HTC 625
  • Metaplas MZR 303
  • Hybrid


Strukturierung:

  • Lithographie
  • RIE
  • Plasmastrahlätzen

 

 

Beschichtungsanlage HTC 625

 

Hybrid Beschichtungsanlage

 

Multifunktionale PVD-Beschichtungsanlage Sulzer Metaplas MZR 303 RF:
DC-/HF-Magnetron-Sputtern & Bogenverdampfung


Charakterisierungsmethoden:

  Aufbau:
  • Mikrosonde
  • GDOS
  • Raman-Spektroskopie
  • 3 x Diffraktometer für XRD/XRR
  • Profilometer
  • Calotester
Eigenschaften:
  • Vibrating Sample Magnetometer (VSM)
  • HF-Permeameter
  • MOKE
  • AFM/MFM
  • Galvanostatische Charakterisierung
  • Zyklische Voltametrie
  • Nanoindentor
  • Mikrohärte
  • Scratchtester
  • Pin-on-Disk Tribometer