Derzeit werden 6 Eigenbau-Sputteranlagen für Inert- bzw. Reaktiv-Sputtergasbetrieb eingesetzt, ausgerüstet mit Turbomolekularpumpen (Basisdruck besser 10-6 mbar), Schwingquarz-Schichtdickenmonitoren, Probenmanipulatoren und HF-Generatoren (300 W bzw. 1200 W max. Ausgangsleistung).
Es können definierte Stöchiometrien sowohl lateral als auch vertikal homogen über Substratflächen bis zur Größe des eingesetzten Targets reproduzierbar eingestellt werden.
- Zwei 6" Planarmagnetrons in 90° Anordnung, Laminar-Flow-Bank (Reinraumklasse 1000).
- Zwei 3" Planarmagnetrons in 90° Anordnung, Laminar-Flow-Bank (Reinraumklasse 1000).
- 3" Planarmagnetron und Substratheizung für Substrattemperaturen bis zu 600°C, Quotientenpyrometer zur Bestimmung von Oberflächentemperaturen.
- 3" Planarmagnetron, geeignet zum Sputtern von magnetischen Materialien und Substratheizung für Temperaturen bis 600°C, Quotientenpyrometer zur Bestimmung von Oberflächentemperaturen.
- Anlage zum Sputterätzen von Substraten bis zu Durchmessern von 6".
- Darüber hinaus: Leybold Z400 3-Magnetron-(PK75) Sputteranlage für Multilagen-Depositionen.
