Fertigung von Mikroarrays für die Karlsruher Mikronase KAMINA mittels HF-Magnetronsputtern unter Verwendung strukturgebender Schattenmasken.
Entwicklung und Fertigung gassensitiver Metalloxidschichten: SnO2 (rein sowie Pt-dotiert).
Fertigung von jeweils 26 Mikroarrays auf einem 3"-Wafer (1µm SiO2/Si/1µm SiO2) bzw. 122 Mikroarrays auf einem entsprechenden 6"-Wafer.
Detektorseite
♦ Monolithischer gesputterter SnO2-Film
(150 nm) unterteilt in 38 Sensoren durch
90 µm Pt-Elektrodenstreifen,
90 µm Detektorfeldbreite.
♦ 2 Pt-Temperaturfühler.
♦ Al-Si-O-Gradientenmembran über das Array (1-10 nm).
Rückseite
♦ 4 Pt-Heizmäander (Temperaturgradient 300-350 °C)
Aktuelle Entwicklungsarbeiten zur Sensitivitätssteigerung:
Kern/Schale-SnO2/SiO2-Nanopartikelfilme, hergestellt mittels Karlsruher Mikowellen-Plasmaprozess (Kooperation mit Gruppe NANO)
