Die Abteilung Stoffverbunde und Dünnschichten setzt unterschiedliche PVD-Beschichtungsanlagen zur Schichtentwicklung ein. Vorzugsweise werden Magnetronsputtern, Arc-Ionenplattieren und Hybridprozesse verwendet. Die Schichtcharakterisierung erfolgt hinsichtlich des Aufbaus, der Eigenschaften und des Verhaltens. Darüber hinaus werden Lithographieprozesse zur Mikrostrukturierung von Schichten eingesetzt.
Beschichtungsanlagen:
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Beschichtungsanlage HTC 625 |
Hybrid Beschichtungsanlage |
Multifunktionale PVD-Beschichtungsanlage Sulzer Metaplas MZR 303 RF: |
Charakterisierungsmethoden:
Aufbau:
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Eigenschaften:
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