| Voraussetzungen | Vorkenntnisse in Mathematik und Physik
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| Literaturhinweise | - Tafelbilder, Folien, Skript
- Scanning Probe Microscopy – Lab on a Tip: Meyer, Hug, Bennewitz, Springer (2003)
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| Kommentar | erstmalig Sommersemester 2011
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| Lehrinhalt | 1) Einführung in die Nanotechnologie
2) Historie der Rastersondenmethoden
3) Rastertunnelmikroskopie (STM)
4) Rasterkraftmikroskopie (AFM)
5) Dynamische Messmoden (DFM, ncAFM, MFM, KPFM, …)
6) Reibungskraftmikroskopie & Nanotribologie
7) Nanolithographie
8) andere Rastersondentechniken
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| Arbeitsbelastung | Präsenszeit: 30 Stunden Vor- /Nachbereitung: 30 Stunden Prüfung und Prüfungsvorbereitung: 30 Stunden
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| Ziel | Der/die Studierende kann - die gebräuchlichsten Messprinzipien der Nanotechnologie insbesondere Raster-Sonden-Methoden erläutern und für die Analyse physikalischer und chemischer Eigenschaften von Oberflächen nutzen
- Interatomare Kräfte beschreiben und deren Einfluß in der Nanotechnologie benennen
- Methoden der Mikro- und Nanofabrikation sowie –lithographie beschreiben
- grundlegende Modelle der Kontaktmechanik und der Nanotribologie beschreiben
- wesentliche Funktionsmerkmale von Nanobauteilen erläutern und anwenden
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| Prüfung | Die Erfolgskontrolle erfolgt in Form eines 30 minütigen schriftlichen Abschlusstestes, dessen erfolgreiches Bestehen Voraussetzung für die Teilnahem an einer 20 minütigen mündliche Prüfung ist. Die Note ergibt sich aus der mündlichen Prüfung.
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