Ausstattung

Das IAM-AWP verfügt über eine umfangreiche Ausstattung modernster Laserstrahlquellen für verschiedenste Bearbeitungszwecke. Zum Einsatz kommen UV-Excimerlaserstrahlquellen, Faserlaser, Festkörperlaser (Nd:YAG), CO₂–Laser, Diodenlaser sowie Ultrakurzpulslaser. Zur Analyse von Bearbeitungsergebnissen kommen diverse Charakterisierungsmethoden zum Einsatz, wie z.B. Standardmethoden der Metallographie und Werkstoffprüfung, Rasterelektronenmikroskopie, Profilometrie, Raman, Röntgenbeugung, elektrochemische Analysen oder Benetzungsuntersuchungen.

Laserstrahlanlagen

1 Ultrakurzpulslaser (NIR, 600fs, 300 W) mit Rolle-zu-Rolle- und Dual-Scanner-Bearbeitung
1 Ultrakurzpulslaser (NIR, 300W) mit Rolle-zu-Rolle- und Large-Field-Scanner-Bearbeitung
2 Ultrakurzpulslaser für die Mikro-/Nanostrukturierung (UV, grün, NIR, 280fs-10ps, 20W, 35W)
1 UV-Festkörper-Laser für die Mikrostrukturierung (Scanning Mask Imaging) und zum Laserdrucken (Laser-induced Forward Transfer)
5 Excimer-Laser für die Mikrostrukturierung (193 nm, 248nm, 10-20 W)
1 Yb:YAG Faserlaser zur Struktuierung (NIR, 5ns-200 ns, 20W)
2 Hochleistungsdiodenlaser zum Annealing und Durchstrahlschweissen (940 nm/50W, 940 nm/100W)
1 CO₂ Laserstrahlquelle zur Mikrostrukturierung und Schneiden (40W)

Analysemethoden

Oberflächenprofilometrie und Rauheitsprüfer
Rasterelektronenmikroskopie und EDX (Philips XL30S, Phenom XL)
Materialographie und Probenpräparation (z.b. Glovebox MBraun Labmaster dp)
Elektrochemische Charakterisierung (Batterietester Arbin BT 2000)
Dynamische und statische Kontaktwinkelmessung (Dataphysics OCA 20)
Laser induced breakdown spectrocopy zur ortsaufgelösten qualitativen und quantitatvien Elementanalyse (LIBS, Secopta GmbH)
Nanoindenter (0,1-500mN, TTX-NHT3, Anton Paar GmbH)