Das IAM-AWP verfügt über eine umfangreiche Ausstattung modernster Laserstrahlquellen für verschiedenste Bearbeitungszwecke. Zum Einsatz kommen UV-Excimerlaserstrahlquellen, Faserlaser, Festkörperlaser (Nd:YAG), CO2–Laser, Diodenlaser sowie Ultrakurzpulslaser. Zur Analyse von Bearbeitungsergebnissen kommen diverse Charakterisierungsmethoden zum Einsatz, wie z.B. Standardmethoden der Metallographie und Werkstoffprüfung, Rasterelektronenmikroskopie, Profilometrie, Raman, Röntgenbeugung, elektrochemische Analysen oder Benetzungsuntersuchungen.
|
Laserstrahlanlagen
- 1 Ultrakurzpulslaser (NIR, 600fs, 300 W) mit Rolle-zu-Rolle- und Dual-Scanner-Bearbeitung
- 1 Ultrakurzpulslaser (NIR, 300W) mit Rolle-zu-Rolle- und Large-Field-Scanner-Bearbeitung
- 2 Ultrakurzpulslaser für die Mikro-/Nanostrukturierung (UV, grün, NIR, 280fs-10ps, 20W, 35W)
- 1 UV-Festkörper-Laser für die Mikrostrukturierung (Scanning Mask Imaging) und zum Laserdrucken (Laser-induced Forward Transfer)
- 5 Excimer-Laser für die Mikrostrukturierung (193 nm, 248nm, 10-20 W)
- 1 Yb:YAG Faserlaser zur Struktuierung (NIR, 5ns-200 ns, 20W)
- 2 Hochleistungsdiodenlaser zum Annealing und Durchstrahlschweissen (940 nm/50W, 940 nm/100W)
- 1 CO2 Laserstrahlquelle zur Mikrostrukturierung und Schneiden (40W)
|
|
Analysemethoden
- Oberflächenprofilometrie und Rauheitsprüfer
- Rasterelektronenmikroskopie und EDX (Philips XL30S, Phenom XL)
- Materialographie und Probenpräparation (z.b. Glovebox MBraun Labmaster dp)
- Elektrochemische Charakterisierung (Batterietester Arbin BT 2000)
- Dynamische und statische Kontaktwinkelmessung (Dataphysics OCA 20)
- Laser induced breakdown spectrocopy zur ortsaufgelösten qualitativen und quantitatvien Elementanalyse (LIBS, Secopta GmbH)
- Nanoindenter (0,1-500mN, TTX-NHT3, Anton Paar GmbH)
|
